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高光电镀的效果的实现通常要求

高光电镀的效果的实现通常要求模具表面良好抛光，出的塑件采用光铬处理后得到的效果。亚光电镀的效果的实现通常要求模具表面良好抛光，出的塑件采用亚铬处理后得到的效果。珍珠铬电镀的效果的实现通常要求模具表面良好抛光，出的塑件采用珍珠铬处理后得到的效果。蚀纹电镀的效果的实现通常要求模具表面处理出不同效果的蚀纹方式后，出的塑件采用光铬处理后得到的效果。

在模具处理上既有抛光的部分又有蚀纹的部分，出的塑件电镀后出项高光和蚀纹电镀的混合效果，突出某些局部的特征。

高光电镀和蚀纹电镀的效果共同作用

我们在设计中常常采用高光电镀和蚀纹电镀的效果共同作用在一个制品上得到特殊的设计效果，通常在设计中建议采用较小的蚀纹，这样效果会比较好，但这样的设计时，为了不会使蚀纹的效果被电镀所掩盖，有时会电镀两层后就不进行电镀，这样的后果是电镀第二层的镍会比较容易氧化变色，影响设计的效果。

这里主要指如果作有颜色的电镀效果时，要提交色差表，因为电镀后的颜色无法做到均匀一致，不同的制件会有较大的差距，所以要提供可以接受的颜色差距值。

半光亮镍/镍复合镀层(镍封闭)

半光亮镍/光亮镍/镍复合镀层（镍封闭） 即在双层镍上再施镀一层镍复合镀层，也就是在镀镍溶液中沉积一层由镍和不溶于水的固体微粒的镍镀层，它能减少镍镀层的孔隙。经镍封闭电镀后镀铬，可使铬层形成很多微孔，叫微孔铬。这主要是由于在镍封闭镀层上镀铬时，由于非金属固体微粒不导电，微粒上无铬沉积，从而使得铬镀层为微孔型的。微孔铬能够提高耐腐蚀性能，因为微孔数目多且均匀，因而每个微孔处腐蚀电流将远远小于常规镀铬粗裂纹下镍层的腐蚀电流，使镍层腐蚀速度减缓，而且横向发展，从而保护了基体金属。